Electrical Switching Characteristics of Thin Film Transistor with Amorphous Chalcogenide Channel
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 pp.280-281
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Trench 형성 및 High-k 물질의 적층을 통한 고출력 특성 EIS pH센서 제작
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.238
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비정질 As2Se3 박막의 Ag 의존적 홀로그래픽 격자 형성 특성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 pp.275-276
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차세대 비휘발성 메모리 적용을 위한 Staggered Tunnel Barrier (Si3N4/ZrO2, Si3N4/HfAlO)에 대한 전기적 특성 평가
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.288
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열처리에 따른 SiO2/ZrO2 적층 감지막을 이용한 EIS소자의 pH 감지 특성 평가
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.239
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Electrical Characteristics of a-GIZO TFT by RF Sputtering System for Transparent Display Application
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.100
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Sb-doped Ag/Ge-Se-Te 박막의 상변화 특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2010 p.347
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P형 우물 영역의 도핑 농도와 면적에 따른 4H-SiC 기반 DMOSFET 소자 구조의 최적화
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.7 2010 pp.513-516
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DPSS laser를 이용한 비정질 칼코게나이드 박막의 회절격자 형성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.246
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차세대 비 휘발성 메모리 적용을 위한 Staggered tunnel barrier ($Si_3N_4$/HfAlO) 에 대한 전기적 특성 평가
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.219
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$Ge_1Se_1Te_2$/As layer에 Ag 박막을 추가 삽입한 구조의 전기적 스위칭 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.156
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Amorphous chalcogenide 박막의 $Ag^+$ 의존적 회절효율 특성에 관한 연 구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2010 p.134
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Chalcogenide 기반 메모리 소자의 스위칭 특성 향상을 위한 광학패턴 형성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.185
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PMC 소자 제작을 위한 비정질 칼코게나이드 박막 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2010 p.354
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AsGeSeS 박막의 광학적 조건에 따른 저항변화 특성에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.248
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Chalcogenide 박막의 Ag층 두께 의존적 holographic 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.107
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Interface Traps Analysis as Bonding of The Silicon/Nitrogen/Hydrogen in MONOS Capacitors
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.46 No.12 2009 pp.18-23
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비휘발성 메모리 적용을 위한 고유전율 $HfO_2$ 물질의 두께에 따른 전하 트랩핑 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.202
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