연마제의 분산시간과 첨가량이 Oxide-CMP에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.527
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.88
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
CMP공정의 전압 활성화로 인한 전기화학적 반응 특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.81
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Effects of Concentration of Electrolytes on the Electrochemical Properties of Copper
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.82
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
$KNO_3$ 전해액을 이용한 Cu 전극의 전기 화학적 반응 특성 고찰
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.49
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
RF-sputtering에 의해 제작된 ZnO박막의 연마특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.166
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
슬러리 분산 및 pH가 Oxide CMP에 미치는 영향
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.605-606
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
슬러리 분산 및 pH가 Oxide CMP에 미치는 영향
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.1271-1272
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.1372-1373
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
A Study on the Oxide CMP Characteristics of using Mixed Abrasive Slurry(MAS)
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.2233-2234
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
정전기 보호를 위한 이중 극성소스를 갖는 EDNMOS 소자의 특성
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.97-98
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
새로운 연마제를 이용한 Oxide CMP 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.378-379
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
마이크로 칩의 정전기 방지를 위한 DPS-GG-EDNMOS 소자의 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.97-98
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Methodological Study for Recycle of Chemical Mechanical Polishing Slurry
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.567-568
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 Vol.55 No.12 2006 pp.549-554
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
고집적 메모리 커패시터의 Vertical Sidewall Patterning을 위한 BTO 박막의 CMP 특성
[Kisti 연계] 대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 Vol.55 No.3 2006 pp.116-121
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
A Study on the Oxide CMP Characteristics of using Mixed Abrasive Slurry(MAS)
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.601-602
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.1269-1270
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
A Study on the Oxide CMP Characteristics of using Mixed Abrasive Slurry(MAS)
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2006 pp.1267-1268
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.
- 구매 불가 논문
-