포토 리소그래피 공정을 위한 Ti(10 nm)-Buffered층 위에 직접 성장된 고품질 무전사 단층 그래핀 공정
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.34 No.1 2021 pp.21-26
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Ti (10 nm)-buffered 기판들 위에 저온에서 직접 성장된 무 전사, 대 면적, 고 품질 단층 그래핀 특성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.30 No.3 2020 pp.142-148
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