니켈 실리사이드의 열안정성에 대한 실리카 상부막과 코발트 중간막의 영향
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.4 No.2 2005 pp.7-10
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PECVD 법으로 증착된 silicon oxynitride 의 물성 분석
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2005 p.242
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Nano-scale CMOS에 적용하기 위한 Ni-Germanosilicide에서 Ni-Pd 합금을 이용한 Ni-Germanosilicide의 열안정성 향상
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2005 pp.31-32
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[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2005 pp.133-136
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[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.4 No.3 2005 pp.1-4
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Co-interlayer와 $SiO_2$ 상부막의 유무에 따른 Nickel Germanosilicide의 열안정성 연구
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2005 pp.215-218
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폐슬러지 실리콘을 이용한 마이크론 크기의 이산화 실리콘 구형입자 제조
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2004 pp.213-216
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