earticle

바소프레신과 옥시토신을 동시에 조절 마이크로RNA, miR-24

이헌진

[Kisti 연계] 한국생명과학회 생명과학회지 Vol.29 No.1 2019 pp.118-122

Candida albicans의 마이크로RNA 동정과 분석

조진현, 이헌진

[Kisti 연계] 한국생명과학회 생명과학회지 Vol.27 No.12 2017 pp.1494-1499

miR-7b Promoter Contains Negative Gene Elements

최지웅, 이헌진

[Kisti 연계] 한국생명과학회 생명과학회지 Vol.21 No.12 2011 pp.1784-1788

부분방전 교정펄스 발생기의 표준화 시스템구축과 불확도

김광화, 이상화, 이헌진, 강동식

[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2009 pp.1355-1357

CMOS 소자를 위한 NiSi의 Surface Damage 의존성

지희환, 안순의, 배미숙, 이헌진, 오순영, 이희덕, 왕진석

[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.16 No.4 2003 pp.280-285

Nano CMOS소자를 위한 Ni-silicide의 Dopant 의존성 분석

배미숙, 지희환, 이헌진, 오순영, 윤장근, 황빈봉, 왕진석, 이희덕

[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.40 No.11 2003 pp.1-8

100nm 이하의 CMOS소자를 위한 Ni Silicide Technology

이헌진, 지희환, 배미숙, 안순의, 박성형, 이기민, 이주형, 왕진석, 이희덕

[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2002 pp.237-240

Ar IBE에 의한 Si표면손상이 NiSi특성에 미치는 영향과 $H_2$ anneal 및 TiN capping에 의한 효과

안순의, 지희환, 이헌진, 배미숙, 왕진석, 이희덕

[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2002 pp.245-248

CMOS 소자를 위한 NiSi의 surface damage 의존성

지희환, 배미숙, 이헌진, 오순영, 윤장근, 박성형, 왕진석

[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2002 pp.167-170

100nm 이하 CMOS 소자의 Source/Drain dopant 종류에 따른 Nickel silicide의 특성분석

배미숙, 김용구, 지희환, 이헌진, 오순영, 윤장근, 박성형, 왕진석, 이희덕

[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2002 pp.198-201

CMOS소자를 위한 Ni Silicide의 Dopant에 따른 영향분석

배미숙, 지희환, 이헌진, 안순의, 박성형, 이기민, 이주형, 왕진석, 이희덕

[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2002 pp.241-244