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신축성 전극 기술 동향

김도일, 황병웅, 노은, 이한별, 이내응

[Kisti 연계] 한국정보디스플레이학회 인포메이션 디스플레이 Vol.17 No.5 2016 pp.14-23

식품 유래 박테리아 현장검출용 바이오센서

이원일, 김보영, 손영민, 김아리, 이내응

[Kisti 연계] 한국센서학회 Journal of sensor science and technology Vol.25 No.5 2016 pp.354-364

플렉서블 및 스트레쳐블 센서 기술 동향

이내응, 김도일, 황병웅, 배찬울, 이한별

[Kisti 연계] 한국정보디스플레이학회 인포메이션 디스플레이 Vol.15 No.4 2014 pp.20-26

Simultaneous Transfer and Patterning of CVD-Grown Graphene with No Polymeric Residues by Using a Metal Etch Mask

장미, 정진혁, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.642

Capacitively Coupled Plasma Source를 이용한 Etcher의 상부 전극 온도 변화에 따른 Etch 특성 변화 개선

신한수, 노용한, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.20 No.5 2011 pp.322-326

피코초 레이저 및 CDE를 이용한 TSV가공기술

신동식, 서정, 조용권, 이내응

[Kisti 연계] 한국레이저가공학회 한국레이저가공학회지 Vol.14 No.4 2011 pp.14-20

ZnO 기반 박막트랜지스터의 기계적 안정성 확보에 관한 연구

이덕규, 박경애, 안종현, 이내응, 김윤제

[Kisti 연계] 대한기계학회 대한기계학회논문집B Vol.35 No.1 2011 pp.17-22

Effect of Plasma Pretreatment on Superconformal Cu Alloy Gap-Filling of Nano-scale Trenches

문학기, 이정훈, 이수진, 윤재홍, 김형준, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.53

Role of gas flow rate during etching of hard-mask layer to extreme ultra-violet resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas

권봉수, 이정훈, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.132

Effects of multi-stacked hybrid encapsulation layers on the electrical characteristics of flexible organic field effect transistors

설영국, 허욱, 박지수, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.257

The effect of plamsa treatment on superconformal copper gap-fill

문학기, 김선일, 박영록, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.249

The electrical characteristics of flexible organic field effect transistors with flexible multi-stacked hybrid encapsulation

설영국, 허욱, 박지수, 이내응, 이덕규, 김윤제, 안철현, 조형균

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.176

Role of $N_2$ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency $CH_2F_2/N_2$/Ar capacitively coupled plasmas

권봉수, 정창룡, 이내응, 이성권

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.458

Effects of $CH_{2}F_{2}$ and $H_2$ flow rates on process window for infinite etch selectivity of silicon nitride to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled plasmas

김진성, 권봉수, 박영록, 안정호, 문학기, 정창룡, 허욱, 박지수, 이내응

[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2009 pp.250-251

NF3 remote plasma를 이용한 NO/Ar 첨가에 따른 Si 웨이퍼의 Roughness 변화

허욱, 안정호, 정창룡, 이내응

[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2009 p.250

Effects of $CH_2F_2$ and $H_2$ flow rates on process window for infinite etch selectivity of silicon nitride to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled plasmas

김진성, 권봉수, 안정호, 박영록, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.251

Highly selective etching of silicon nitride to CVD a-C in dual-frequency capacitively coupled $CH_2F_2$/$H_2$plasmas

김진성, 권봉수, 안정호, 박영록, 정창룡, 허욱, 박지수, 이내응, 손종원

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.227

Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled $CF_{4}/O_{2}/Ar$ and $CF_{4}/CHF_{3}/O_{2}$/Ar plasmas

권봉수, 김진성, 박영록, 안정호, 문학기, 정창룡, 허욱, 박지수, 이내응, 이성권

[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2009 pp.252-253

Infinitely high selective etching of ITO binary mask structure for extreme ultraviolet lithography (EUVL)

박영록, 안정호, 김진성, 권봉수, 이내응, 강희영, 서환석

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.250

Electrical characteristics of flexible organic thin film transistor with passivation layer during mechanical bending

설영국, 안정호, 이내응

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.180