Si3N4/ZrO2 엔지니어드 터널베리어의 메모리 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.155
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Engineered Tunnel Barrier Ploy-TFT Memory for System on Panel
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.128
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$Si_3N_4$/HfAlO 터널 절연막을 이용한 나노 부유 커패시터의 전기적 특성 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.279
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RF 마그네트론 스퍼터법을 사용한 전도성 SrMoO3 박막 제조 및 전기전도특성 평가
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.6 2011 pp.468-472
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차세대 비 휘발성 메모리 적용을 위한 Staggered tunnel barrier ($Si_3N_4$/HfAlO) 에 대한 전기적 특성 평가
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.219
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Heat treatment effect of high-k HfO2 for tunnel barrier memory application
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.218
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$SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$ 와 $Si_3N_4/SiO_2/Si_3N_4$ 터널 장벽을 사용한 금속 실리사이드 나노입자 비휘발성 메모리소자의 열적 안정성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.139
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RF 스퍼터법에 의한 $Sr_2FeMoO_6$ 박막 제조
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2010 p.24
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$Al_2O_3/HfO/Al_2O_3$ 터널장벽 $WSi_2$ 나노 부유게이트 커패시터의 전기적 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 pp.191-192
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RF 스퍼터법을 이용한 Sr2FeMoO6 박막 제조 및 전기전도 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.12 2010 pp.966-972
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Characteristics of embedded TFT memory on glass substrate
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.260
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$SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$ 터널장벽을 갖는 WSi2 나노입자 메모리소자의 전하누설 근원분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.193
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임베다드 TFT 메모리 적용을 위한 결정화 방법에 따른 전기적 특성평가
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2010 p.356
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Engineered tunnel barrier가 적용되고 전화포획층으로 $HfO_2$를 가진 비휘발성 메모리 소자의 특성 향상
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 pp.415-416
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엔지니어드된 터널 절연막과 전하트랩층에 고유전 물질을 적용한 전하 트랩형 메모리 캐패시터의 메모리 특성 개선
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 pp.408-409
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.34
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엔지니어 터널베리어($SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$)와 고유전율($HfO_2$) 트랩층 구조를 가지는 비휘발성 메모리의 멀터레벨에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.56
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