식각공정용 가스방전에서 이온 및 활성종 밀도의 전자밀도 및 온도 의존성에 대한 수치해석적 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.20 No.6 2011 pp.422-429
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$NH_3/N_2/SiH_4$ 유도결합 플라즈마 방전에서 중성종 및 활성종의 플라즈마 변수 의존성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.113
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$Cl_2$/Ar 방전에서의 플라즈마 변수에 대한 이온과 라디칼 밀도 의존성 분석
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2010 p.103
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