CMOS 소자를 위한 NiSi의 Surface Damage 의존성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.16 No.4 2003 pp.280-285
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100nm 이하의 CMOS소자를 위한 Ni Silicide Technology
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2002 pp.237-240
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Ar IBE에 의한 Si표면손상이 NiSi특성에 미치는 영향과 $H_2$ anneal 및 TiN capping에 의한 효과
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2002 pp.245-248
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CMOS소자를 위한 Ni Silicide의 Dopant에 따른 영향분석
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2002 pp.241-244
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2000 pp.735-738
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