Shallow S/D Junction에 적용 가능한 NiSi를 형성하기 위한 Ni-Pd 합금의 특성 연구
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2005 pp.603-606
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Nano-scale CMOS에 적용하기 위한 Ni-Ta 합금을 이용한 Ni-Germanosilicide의 열안정성 개선
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2005 pp.607-610
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Nano-scale CMOS에 적용하기 위한 Ni-Germanosilicide에서 Ni-Pd 합금을 이용한 Ni-Germanosilicide의 열안정성 향상
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2005 pp.31-32
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