OLED 소자 제조를 위한 주울 가열 봉지 공정 시 도전층 구조에 따르는 열분포
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.46 No.4 2013 pp.162-167
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ELA Poly-Si과 SLS Poly-Si에서 Boron Activation에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.376
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비정질 실리콘 박막의 주울 가열 유도 결정화 공정 중 발생하는 Arc-Instability 기구 규명 및 방지책
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.375
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Buried Channel PMOS에서 이온 주입된 $BF_2$ 열처리 거동
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.374
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비정질 실리콘의 결정화를 위한 줄 가열 유도 결정화 공정에 대한 열적 연구
[Kisti 연계] 대한기계학회 대한기계학회논문집B Vol.35 No.3 2011 pp.221-228
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라만 분석을 통한 비정질 실리콘 박막의 고온 고상 결정화 거동
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.43 No.1 2010 pp.7-11
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Joul-heating induced crystallization (JIC) for LTPS TFT-Backplanes
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.244
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Reverse annealing of boron doped polycrystalline silicon
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.284
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OLED 디스플레이 제작을 위한 Joule 유도 결정화 공정에서의 유리기판에 대한 열해석
[Kisti 연계] 대한기계학회 대한기계학회논문집B Vol.33 No.10 2009 pp.797-802
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Solid Phase Crystallization of Amorphous Silicon Films at High Temperatures
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.285
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Joul-heating induced crystallization (JIC) for LTPS TFT-Backplanes
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.284
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이온주입된 다결정박막 실리콘의 열처리 시 reverse annealling에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.337
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이온 주입 후 열처리 방법에 따른 도펀트 활성화 및 결함 회복에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2006 p.178
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다결정 실리콘 박막 위에 P이온 샤워 도핑 후 열처리 방법에 따르는 도펀트 활성화 및 결함 회복에 관한 효과
[Kisti 연계] 한국전기화학회 전기화학회지 Vol.8 No.1 2005 pp.24-31
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교번자속 인가에 의한 유기 반도체막의 어닐링 효과에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2003 pp.1517-1519
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Source/drain 형성 시 초 저에너지로 B 이온 주입된 실리콘의 activation-deactivation 현상
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2003 p.134
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PES 기판위에 Sputter로 증착된 비정질 실리콘 박막의 Excimer Laser Crystallization
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2003 p.137
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저온 poly-Si TFT의 제조 시 Ion Shower Doping 공정 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2003 p.135
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