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영어

This study empirically examines the causal effects of U.S. semiconductor export controls imposed on China on October 7, 2022, focusing on their impact on China’s technological innovation. Treating the export controls as an exogenous policy shock, the study employs a Difference-in-Differences (DID) framework combined with a dynamic event-study approach using monthly panel data from January 2020 to December 2023. China is defined as the treatment group, while South Korea and Taiwan serve as control groups. R&D investment is used as an input indicator of innovation, and semiconductor-related patent applications are used as an output indicator. The empirical results reveal that, following the sanctions, China’s semiconductor R&D investment increased by approximately 34.7% relative to the control group, while patent applications rose by about 24.5%. These findings contradict the predictions of traditional sanctions theory, which assumes that technology restrictions suppress innovation, and instead suggest a paradoxical effect whereby sanctions stimulate innovative activity. Mediation analysis further shows that approximately 33.3% of the total increase in patent output is explained by increased R&D investment, while the remaining 66.7% arises from direct channels such as the concentration of existing research capabilities and improvements in research efficiency. Dynamic analysis indicates a short-term contraction immediately after the sanctions, followed by a rapid rebound around six months later and subsequent stabilization at a higher level. By adopting a dynamic and system-oriented perspective, this study contributes to the literature by demonstrating that technology sanctions may induce adaptive responses within national innovation systems rather than simply restraining technological progress. The findings offer important implications for the design and evaluation of technology sanctions in the context of intensifying global technological competition.

한국어

본 연구는 2022년 10월 7일 미국의 대중국 반도체 수출통제를 외생적 정책 충격으로 활용하여, 해당 기술 제재가 중국의 기술혁신 활동에 미친 인과적 효과를 실증적으로 분석하였 다. 이를 위해 2020년 1월부터 2023년 12월까지의 월별 패널 데이터를 구축하고, 중국을 처리집단으로, 한국과 대만을 통제집단으로 설정하여 이중차분법(Difference-in-Differences) 과 동적 효과 분석을 수행하였다. 혁신의 투입 지표로는 반도체 R&D 투자액을, 산출 지표로는 반도체 관련 특허 출원 건수를 사용하였다. 분석 결과, 제재 이후 중국의 반도체 R&D 투자는 통제집단 대비 약 34.7% 증가하였으며, 특허 출원 역시 약 24.5% 증가한 것으로 나타났다. 이는 기술 접근 차단이 혁신을 억제할 것이라는 전통적인 제재 이론과 달리, 제재가 오히려 혁신 활동을 촉진하는 역설적 효과를 가질 수 있음을 시사한다. 매개효과 분석 결과, 특허 증가 효과의 약 33.3%는 R&D 투자 확대를 통한 간접경로에서, 나머지 66.7%는 기존 연구역량의 집중과 효율성 제고 등 직접경로에서 발생한 것으로 확인되었다. 또한 동적 효과 분석에서는 제재 직후 단기적 위축 이후, 약 6개월 시점부터 급격한 반등과 이후 안정화로 이어지는 단계적 적응 패턴이 관찰되었다. 본 연구는 기술 제재의 효과를 단기적 억제 관점이 아닌, 국가혁신시스템의 적응과 학습이라는 동태적 관점에서 재해석함으로써 기존 제재 연구에 이론적·실증적 기여를 한다. 더 나아가 기술 패권 경쟁이 심화되는 상황에서 제재 정책의 효과성과 한계를 재검토할 필요성을 제기하며, 향후 기술 제재 설계와 혁신 정책에 대한 중요한 정책적 시사점을 제공한다.