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노이즈 소스 근거리장에 위치한 금속 차폐막의 차폐효과 분석

원문정보

Analysis for Shielding Effectiveness of Metal Shielding Layer within Near-Field of Noise Source

이원선, 이원희, 허정

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초록

영어

The EMI shielding effectiveness of the shielding layer thickness was analyzed when the metal shielding layer was placed in the near field of the magnetic probe and the noise source. Microstrip lines were used as noise source, and graphite and ferrite were selected as metal shielding materials. The magnetic probe uses the electromagnetic radiation measurement method using the magnetic probe by applying the IEC 61967-6 method. The transmission coefficient between the microstrip line and the magnetic probe was analyzed. The distance between the two was 1 mm for a single shielding layer and 5 mm for a multiple shielding layer. The thickness of the shielding layer was changed to 5 um, 10 um, 30 um, and 50 um. When the frequency was changed from 150 kHz to 1 GHz, a maximum shielding effectiveness (SE) of 44.9 dB was obtained.

한국어

마그네틱 프로브와 노이즈 소스의 근거리장에 금속 차폐막이 놓여있을 때 차폐막 두께에 따른 EMI 차폐효과를 분석하였다. 노이즈 소스로는 마이크로스트립 라인을 이용하였으며, 금속 차폐막 재료로는 그래파이트와 페라이트를 선 정하였다. 마그네틱 프로브는 IEC 61967-6 방식을 적용하여 마그네틱 프로브를 이용한 전자기 방사 측정 방법을 사용 하였다. 마이크로스트립 라인과 마그네틱 프로브 사이의 투과계수를 분석하였고, 둘 사이의 거리는 단일 차폐막일 경우 1 mm, 다중 차폐막일 경우 5 mm로 수행하였다. 차폐막의 두께는 5 um, 10 um, 30 um, 50 um 으로 변화시켰다. 주파수를 150 kHz에서 1 GHz까지 변화시켰을 경우 최대 44.9 dB의 SE(Shielding Effectiveness)를 얻었다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 마이크로스트립 라인의 시뮬레이션
Ⅲ. 단일 차폐막 시뮬레이션
Ⅳ. 다중 차폐막 시뮬레이션
Ⅴ. 결과 및 분석
Ⅵ. 결론
References

저자정보

  • 이원선 Won-Seon Lee. 준회원, 건국대학교 전기전자공학부
  • 이원희 Won-Hui Lee. 정회원, 서일대학교 정보통신공학과
  • 허정 Jung Hur. 정회원, 건국대학교 전기전자공학부

참고문헌

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