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28 A/㎠-940 A/㎠의 임계전류밀도 범위로 제작된 Nb/AI-AIOx/Nb 터널 접합의 전기적 특성

원문정보

Electrical Characteristics of Nb/Al-AlOx/Nb Tunnel Junction fabricated with Ie Values in the Range of 28 A/㎠-940 A/㎠

홍현권, 김규태, 박세일, 김구현, 남두우

한국초전도저온학회 (구 한국초전도저온공학회) 한국초전도·저온논문지 (구 한국초전도저온공학회논문지) 4권 1호 2002.05 pp.4-7
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저자정보

  • 홍현권 Hyun Kwon Hong. 충북대 대학원 전자공학과
  • 김규태 Kyu-Tae Kim. 한국표준과학연구원
  • 박세일 Se Il Park. 한국표준과학연구원
  • 김구현 Gu Hyun Kim. 충북대 대학원 물리학과
  • 남두우 Doo-Woo Nam. 인천대 대학원 물리학과

참고문헌

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