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[논문]

Biased Double Arc Plasma CVD법에 의해 제조된 TiC 피복층의 온도와 압력이 미치는 영향에 관한 연구

원문정보

A Study on the influence of Temperature and Pressure on TiC Film Deposited by Biased Double Arc Plasma CVD

양영호

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목차

Abstract
 1. 서론
 2. 실험방법
 3. 실험결과 및 고찰
  3.1 증착층의 우선 성장 방위
  3.2 증착층 표면의 형상변화
  3.3 온도에 따른 증착층의 두께변화
  3.4 압력에 따른 증착층의 두께변화
  3.5 증착층의 경도
 4. 결론
 참고문헌

저자정보

  • 양영호 Yeong-Ho Yang. 경문대학 기계과 조교수

참고문헌

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