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포토마스크가 필요 없는 스크린 제판 기술 개발(Ⅱ)

원문정보

A Development on the Non-Photomask Plate Making Technology for Screen Printing(Ⅱ)

박경진, 강효진, 김성빈, 남수용, 안병현

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초록

영어

We have manufactured a photoresist which has excellent dispersity and good applying property due to 330 cps of viscosity for environment-friendly and economical maskless screen plate making. And the photoresist applied on the screen stretched was exposed with mask by UV-LED light source so we could manufacture the photoresist which proper for the UV light source. And it was developed by air spray with 1.7 kgf/㎠ of injection pressure. Because of the excellence of power and resolution of the UV-LED light sourse, the pencil hardness and solvent resistance of curing photoresist film were excellent as those of conventional photoresist film. Moreover the 100㎛-width stripe image which has sharp edges was formed. So we confirmed a possibility of dry development process by air spray method.

목차

Abstract
 1. 서론
 2. 실험
  2-1. Maskless용 photoresist 제조
  2-2. Maskless 용 노광 및 건식 현상 시스템
 3. 결과 및 고찰
  3-1. Maskless용 photoresist의 점도 거동
  3-2. Maskless용 photoresist의 분산성
  3-3. Photoresist 경화막의 경도
  3-4. Phororesist 경화막의 내용제성
  3-5. Maskless 스크린 제판의 패턴 형상 및 인쇄 결과
 4. 결론
 참고문헌

저자정보

  • 박경진 Kyoung-Jin Park. 부경대학교 인쇄공학과
  • 강효진 Hyo-J in Kang. 부경대학교 인쇄공학과
  • 김성빈 Sung-Bin Kim. 부경대학교
  • 남수용 Su-Yong Nam. 부경대학교
  • 안병현 Byung-Hyun Ahn. 부경대학교

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

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