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Fine Line Lithography를 위한 Polymer Resist에 관한 연구

원문정보

Studies on Polymer Resist for Fine Line Lithography

박이순, 하기룡, 손세모

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초록

영어

Practically to put use high-photosensitive polymer, poly(vinyl cinnamoyl acetate), we investigated and confirmed UCHIDA`s synthesis, according to control solvent, which is the esterification of poly (vinyl alcohol) with monochloroacetic acid and can be freely conrolled the successive cinnamoyl acetoxyl esterfication of PVCiA, and intruducing photosensitizers,studied the photosensitivity of PVCiA.

목차

Abstract
 1. 서론
 2. 실험
  시약
  기기분석
 3. 결과 및 고찰
  3.1 네가형 포토레시스트
  3.2 포지형 포토레지스트의 성분 및 특성
 참고문헌

저자정보

  • 박이순 Lee-Soon Park. 경북대학교 고분자공학과
  • 하기룡 Ki-Ryong Ha. 계명대학교 화학공학과
  • 손세모 Se-Mo Son. 부산공업대학교 인쇄공학과

참고문헌

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