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영어

The effect of organic acids on the adsorption of U(VI) onto oxide surfaces (TiO2(anatase), SiO2(amorphous) and Al2O3(amorphous)) has been investigated. Two different organic acids, salicylic and picolinic acids, were used. Changes of adsorption ratio of U(VI), which depend on the existence of organic acids in a sample, were measured as a function of pH. Quantities of adsorbed organic acids, which depend on the existence of U(VI) in a sample, were also measured as a function of pH. It is confirmed that the soluble complex formation of U(VI) with organic acids can deteriorate the adsorption of U(VI) onto TiO2 surface. It is noteworthy that salicylic acid does not affect the adsorption of U(VI) onto SiO2 surface, however, picolinic acid enhances the adsorption of U(VI) onto SiO2 surface. The latter effect can be understood by considering the formation of a ternary surface complex on SiO2 surface, which was confirmed by the co-adsorption of picolinic acid with U(VI) and the change in a fluorescence spectra of U(VI) on surface. In the case of Al2O3, organic acids themselves were largely adsorbed onto a surface without deteriorating the adsorption of U(VI). This would support the possibility of a ternary surface complex formation on the Al2O3 surface, and an additional spectroscopic study is required.

한국어

세 종류의 산화물(TiO2(아나타제), SiO2(비결정성) 및 Al2O3(비결정성)) 표면에 U(VI)이 흡착될 때 유기산 이 미치는 영향을 연구하였다. 유기산으로는 살리실산과 피콜린산을 사용하였다. 유기산의 존재 여부에 따 라 달라지는 U(VI)의 흡착률 변화를 pH 함수로 측정하였다. 또한 U(VI)의 존재 여부에 따라 달라지는 유기 산의 흡착량을 pH 함수로 측정하였다. TiO2의 경우, 살리실산과 피콜린산이 U(VI)과 수용성 착물을 형성함 으로써 U(VI)의 흡착률을 저하시킨다. SiO2의 경우, 살리실산은 U(VI) 흡착에 영향을 주지 않지만, 피콜린산 은 오히려 U(VI) 흡착을 증가시킨다. 이 현상을 삼성분 표면착물(ternary surface complex) 생성으로 해석하였으며 U(VI) 흡착에 의존하는 피콜린산의 흡착량 변화, 그리고 흡착된 U(VI)의 형광 특성 변화로 이를 확인 하였다. Al2O3의 경우, 살리실산과 피콜린산 모두 U(VI) 흡착과 무관하게 높은 흡착량을 보였으나 U(VI) 흡 착을 감소시키지는 않았다. 따라서 삼성분 표면착물 생성을 배제할 수 없으나 이를 확인하기 위해서는 분광 분석과 같은 추가 연구가 필요하다.