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Aerial image prediction for mask defect in extreme ultraviolet lithography

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Jong-Hoi Kim, Sang-Jin Sim, Young-Keun Kwon, Myung-Sul Yoo, Seung-Wook Park, Ilsin An, Ok-Kyoung Kim, Hye-Keun-Oh

한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제6집 2003.12 pp.89-93
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목차

Abstract
 1. Introduction
 2. Basic equations for the FDTD
 3. Basic modeling of EUV masks
 4. Modeling of defects on EUV masks
 5. Simulation results
 6. Discussion and Conclusion
 References

저자정보

  • Jong-Hoi Kim Department of Applied Physics, Hanyang University
  • Sang-Jin Sim Department of Applied Physics, Hanyang University
  • Young-Keun Kwon Department of Applied Physics, Hanyang University
  • Myung-Sul Yoo Department of Applied Physics, Hanyang University
  • Seung-Wook Park Department of Applied Physics, Hanyang University
  • Ilsin An Department of Applied Physics, Hanyang University
  • Ok-Kyoung Kim Department of Applied Physics, Hanyang University
  • Hye-Keun-Oh Department of Applied Physics, Hanyang University

참고문헌

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