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193nm 용 화학 증폭형 감광재의 노광 후 열처리 과정 중 두께변화에 관한 연구

원문정보

Thickness Reduction Effect of Chmically Amplified Resist Simulator during Post Exposure Bake

이은미, 오혜근

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목차

요지
 Abstract
 1. 서론
 2. 실험
 3. 결과
  3.1. PEB 중 감광제의 두께 변화
  3.2. 두께와 Cas 사이의 관계
 4. 시뮬레이션
  4.1. 탑 라운딩 효과
  4.2. 측면각
  4.3. 초점 여유도
  4.4. 노광량 감소 효과
 5. 결론
 6. 참고문헌

저자정보

  • 이은미 Eun-Mi Lee. 한양대학교 이과대학 물리학과
  • 오혜근 Hye-Keun Oh. 한양대학교 이과대학 물리학과

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

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